Теоретичне визначення потенціалу іон поверхневої взаємодії для багатошарових адсорбентів на основі кремнезему

  • T. V. Goraichuk Інститут хімії поверхні НАН України
  • L. G. Ilchenko Інститут хімії поверхні НАН України
  • V. V. Lobanov Інститут хімії поверхні НАН України

Анотація

Показано, що при нанесенні шару SiO2 завтовшки ~40 Å  потенціал взаємодії V0(х,L) в багатошаровій системі метал–кремнезем–вакуум є аналогічним потенціалу взаємодії заряду з поверхнею дисперсного кремнезему.

Посилання

Медицинская химия и клиническое применение диоксида кремния / Под ред. А.А. Чуйко. - Киев: Наук. думка, 2003. – 415 с.

Химия поверхности кремнезема / Под ред. А.А Чуйко. – В 2-х т. – Киев: УкрИНТЭИ, 2001. – 1236 с.

Ильченко Л.Г., Гречко Л.Г. Потенциал сил изображения у поверхности диэлектрика с металлическим покрытием // Поверхность. Физика, химия, механика. - 1991, № 2, С.86‑89.

Горайчук Т.В., Ільченко Л.Г., Савон О.О. Про вплив надтонких діелектричних покриттів на електростатичну активність неселективних діелектричних поверхонь // Укр. физ. журн. - 2001. - Т. 46, № 5. - С.572-577.

Ильченко Л.Г., Пашицкий Э.А., Романов Ю.А. Электростатический потенциал зарядов в слоистых системах с пространственной дисперсией // Физика твердого тела. - 1980. - Т. 22, № 9. - С.2700-2710.

Il'chenko L.G., Pashitskii E.A. and Romanov Yu.A. Charge interaction in layered systems with spatial dispersion // Surf. Sci. - 1982.- V. 121. - P.375-395.

Il’chenko L.G., Goraychuk T.V. Image potential between closely separated quantum-size film and a metal // Ultramicroscopy. - 2003. - V. 95. - P.67-73.

Il’chenko L.G., Litovchenko V.G., Kryuchenko Yu.V. Electron field emission (FE) from quantum size systems // Appl. Surf. Sci. - 1995. – V. 87/88. - P.53-60.

Опубліковано
2004-06-16
Як цитувати
Goraichuk, T. V., Ilchenko, L. G., & Lobanov, V. V. (2004). Теоретичне визначення потенціалу іон поверхневої взаємодії для багатошарових адсорбентів на основі кремнезему. Поверхня, (10), 4-7. вилучено із https://surfacezbir.com.ua/index.php/surface/article/view/129
Номер
№ 10 (2004): Хімія, фізика та технологія поверхні
Розділ
Моделювання процесів на поверхні
  1. Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
  2. Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
  3. Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи.